石英玻璃加工|微晶玻璃|光学镜片定制-变色龙精密玻璃有限公司
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变色龙精密玻璃公司玻璃抛光业务包括：光学微晶玻璃抛光，光学石英玻璃抛光，超光滑玻璃抛光，埃米级微晶玻璃抛光，大尺寸研磨抛光，高光洁度石英玻璃抛光，纳米级粗糙度石英玻璃抛光等各规格玻璃抛光。
微晶玻璃是应用于电子、微电子、光电子领域的一类基础材料，主要用于第二代计算机硬盘，具有光电，热电，声光，磁光等多种功能部件，是制作飞机控制，惯导，制导，控制光学元件的基础材料。目前军用和高品质光学元件均采用焦油抛光，但由于焦油抛光仍处于人工操作阶段，人为因素影响较大，表面加工周期长且粗糙度大，成品率低，易造成边缘塌陷而采用CeO2磨料磨削，磨料一般是在磨削过程中制成的，存在颗粒不均匀，表面不光滑，这会对抛光质量产生负面影响，导致表面产生划痕，并且磨料不易清洗，工艺繁琐等等。
1.机械抛光 机械抛光是通过切削和材料表面的塑性变形获得光滑表面的一种抛光方法，一般采用油石条、羊毛轮、砂纸等，主要是手工操作，旋转体面等特殊零件，可使用转台等辅助工具，超精细抛光方法可用于高表面质量要求。
超精密抛光是一种特殊的研磨工具。在磨料溶液中，它被压制在工件的被加工表面上并高速旋转。采用这种技术可以获得Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中很高的。
2.化学抛光 是指在化学介质中使材料表面的微凸出部分比凹面部分溶解更好，从而获得光滑的表面，该方法的主要优点是不需要复杂的设备，可以同时抛光工件的复杂形状，可以同时抛光大量工件，效率高，化学抛光的核心问题是抛光液的制备，化学抛光获得的表面粗糙度一般为10μm。
3.电解抛光 基本原理与化学抛光相同，即通过选择性表面凸出使溶解物表面光滑，与化学抛光相比，可以消除阴很反应的影响，效果更好。
4.流体抛光 流体抛光是依高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。
5.超声抛光 将工件置于磨粒悬浮体中，并将其置于超声波波场中，依靠超声波的振荡作用，使研磨和抛光作用于工件表面。超声加工具有较小的宏观力，不会引起工件变形，但制造和安装工具困难，超声波加工可以与化学或电化学方法相结合。
在溶液腐蚀和电解的基础上，采用超声波振动搅拌液将溶解物从工件表面分离出来，表面附近的腐蚀或电解质均匀，超声波在液体中的空化也能抑制腐蚀过程，有利于表面光亮。
6.磁性研磨抛光 是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨粒，并对工件进行研磨和加工，该方法具有加工效率高、质量好、加工条件易于控制、工作条件良好等优点，在合适的磨料下，表面粗糙度可达Ra0.1μm。
微晶玻璃抛光中存在的以上问题已经成为微晶玻璃得到广泛推广应用的障碍，为提高抛光速率，美国一些公司如Cabot、Rodel等公司采用大粒径磨料(130nm左右)提高抛光过程中的机械作用，进而提高抛光速率，但是这种方法也同时产生了表面划伤、残余颗粒难于清洗、抛光浆料流动性差、易沉淀等问题。
为了克服现有微晶玻璃用CMP(化学机械抛光)抛光液在抛光工艺中存在的表面划伤、塌边和清洗的技术问题，而提供一种化学作用强，易于清洗，有效解决划伤问题，抛光速率高，流动性好，无沉淀产生的用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液。
在CMP条件，将微晶玻璃的主体二氧化硅(酸性氧化物)在高PH值下快速转化为可溶性硅酸盐，用复合碱形成高PH值，采用均一性好易清洗的硅溶胶做磨料，有机碱和活性剂使二氧化硅溶胶胶核形成一个稳定的膜，使PH在大于12.5仍很稳定，不会发生溶解。
变色龙精密玻璃公司有日本Speedfam的单面和双面研抛机、环抛机、法国DMG超声波加工中心、大尺寸加工中心(2米*1.2米)、大尺寸平面磨床(1.6米*0.6米)、台湾精一CNC切割机、薄片平板清洗机、超声波槽式清洗机、平面干涉仪、二次元检测机等一大批精密加工及检测设备，为做好优质产品打下坚实基础!公司绝大多数生产员工和技术员，十几年来一直从事精密行业，从未离开。稳定专业的团队，不懈努力追求的精神，保证了我们产品的过人质量，铸造了我们的信誉!
